ASML出货全球首台顶级光刻机，中国能打造自己的ASML吗？

7月16日，光刻机大厂ASML发布了2025年第二季度财报，营收及净利润均实现了不错的同比增长，毛利率也高于预期。ASML在该季度还交付了首台第二代 High NA EUV 光刻机TWINSCAN EXE:5200B。

二季度净利润同比大涨44.9%

具体来说，2025年第二季度，ASML实现净销售额77亿欧元，处于此前预测营收区间的高位，环比增长0.65%、同比增长 23.21%。其中，装机售后服务的净销售额为21亿欧元；毛利率为53.7%，高于预期51%至53%；净利润达 22.90 亿欧元，环比小幅下滑 2.76%，同比大涨44.9%。

二季度出货首台 TWINSCAN EXE:5200B 系统

从出货来看，ASML二季度出货了 67 台新光刻设备和 9 台二手光刻设备。67台光刻机当中，包括11台EUV光刻机、31台ArFi光刻机、4台ArFdry光刻机、16台KrF光刻机、14台I-line光刻机，以及第一台第二代High NA EUV光刻机 TWINSCAN EXE:5200B。

据ASML介绍，TWINSCAN EXE:5200B 的镜头和照明器，采用了0.55 NA光学元件，具有改进的像差规格，兼容更高的光源功率；拥有1um预脉冲EUV源技术，可以以更高的锡液滴频率运行，并改进剂量裕度控制；晶圆仓设计支持双标线曝光的高生产率；新的工件台可以减少晶圆交换开销。

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在技术指标方面，TWINSCAN EXE:5200B的分辨率为8nm，在50mJ/cm²时的吞吐量为每小时175片晶圆。

中国大陆净系统销售额占比27%

从销售额和区域占比来看，ASML二季度净系统销售额为55.96亿欧元，其中中国台湾占比比35%，环比大幅增加19个百分点，或与台积电积极推进2nm量产有关；中国大陆占比27%，环比持平；韩国占比19%，环比大幅减少21个百分点，可能与三星、SK海力士资本支出下滑有关；美国占比10%，环比下滑6个百分点，应该与特朗普政府上台后，威胁废除《芯片与科学法案》，以及相关政策的不确定性，使得部分晶圆制造商在美国本土的投资放缓有关；日本占比5%，环比增加4个百分点。

日媒：中国能打造自己的ASML？

日本《日经亚洲评论》7月16日文章，原题：中国能够打造自己的阿斯麦吗？ 在北京，中国顶尖芯片制造商中芯国际的工程师们正夜以继日地工作，以扩大14纳米甚至7纳米芯片的产量。对于一家已在美国打压下艰苦奋斗数年的公司来说，能制造这么先进的芯片无异于重大突破。但中芯国际的使命并非仅限于制造芯片，该公司希望完全使用中国国产设备来制造它们。有关目标已被明确写入中国的经济路线图——推动集成电路全产业链自主可控。消息人士说，中国的芯片制造商正努力实现目标。

对业内高管开展的多次采访显示，中芯国际及其中国同行已在多个前沿领域取得显著进展，用本土替代设备取代用于蚀刻、检测、沉积和化学抛光等工艺的外国工具。但中国企业面临一个令人生畏的障碍：光刻。该工艺对芯片的最终性能至关重要，但光刻机非常复杂和昂贵，过去世界上仅有3家公司——荷兰的阿斯麦、日本的佳能与尼康能生产。对中国来说，这仍是在努力实现科技自立自强道路上需面对的差距。美国实施严苛出口管制，旨在限制阿斯麦对华运送先进光刻机。这些政治紧张已使作为关键市场之一的中国成为阿斯麦最坚定的竞争者之一，即使通往成功的道路依然漫长。例如，上海微电子装备（集团） 股份有限公司已开发出生产90纳米芯片的光刻机。华为也成为中国芯片制造设备行业的主要支持者，建立了研发中心，正从全球头部芯片企业招聘人才，还支持深圳芯片设备制造商新凯来开发各种芯片制造工具，以降低对外依赖。

与此同时，鲜为人知的上海宇量昇科技有限公司接受中国多家顶尖研究机构的技术帮助和人员支持，成为光刻技术领域的挑战者。知情人士透露，这几家公司的最终任务是开发中国国产EUV光刻机，并建立一个不受美国限制的独立生态系统。中国的中央和地方政府也在大力支持此类行动。

研发动力是走向成功的另一关键因素，讽刺的是，正是华盛顿为中国提供了这种动力。美国的出口管制为中国半导体设备供应商创造了一个黄金时代，如今几乎所有中国顶尖芯片制造商都尽可能转向使用本土设备。一名中国芯片设备企业高管说：“老实说，大多数国产设备的性能仍无法与领先的国际解决方案媲美。”据了解，一些中国芯片制造商因使用本土设备导致产量下降，但这并未阻止他们继续试验。

曾在美国政府担任高级官员的半导体专家梅根·哈里斯说，对于中国在芯片工具制造方面的能力，美国的看法未免天真或无知，“最坏情况是，中国的工具制造商不仅在国内具有竞争力，甚至在国际上具有竞争力。而这即将到来，且一旦开始就很难停止”。